マスク アライナー システムは操作が簡単で、安定性と信頼性が高く、さまざまな顧客のカスタマイズされたニーズを満たすことができ、さまざまな材料のフォトリソグラフィー処理に適しています。 リソグラフィー装置は、半導体産業やオプトエレクトロニクスなどのハイテク分野で幅広い市場の可能性を秘めており、より効率的で正確な処理ソリューションをユーザーにもたらします。

 

マスクアライナーシステムは、ミクロン加工分野の重要な装置として、高精度、高効率、高安定性という利点を持っています。 それは将来の科学技術の発展において重要な役割を果たし、技術の継続的な進歩と革新を促進します。

 

1. 設置環境：

(1) 室温を 25 度±2 度 (77 度 F±3.6 度 F) に維持することをお勧めします。

(2) 相対湿度が 60% を超えないこと

(3) 振動 露光機は高い位置合わせ精度が要求されるため、振動のない場所に設置し、振幅が 4μm を超えないようにする必要があります。

(4) 浄化。 室内の浄化も非常に重要であり、特に非常に微細な生産ラインを備えた製品の場合には重要です。 レベル100まで浄化できるといいですね。

 

2. マスキングの要件:

この機械にはマスクの厚さの要件はありませんが、全体の寸法と凹凸はマスクの厚さに準拠する必要があります。

用語：

本装置は、ホストマシン、ワークベンチ、電気制御ボックス、付属品ボックスで構成されます。

メインマシンは、露光ヘッド、顕微鏡および顕微鏡移動プラットフォーム、プレートラック、フィルム担持テーブル、Z 方向移動装置、5 層ガイドレール、および 3 ピンレベリング機構で構成されます。 電気制御ボックスは作業台の後ろに設置されています。 付属品ボックスには、仕様の異なる「フィルム載置台」と「マスクフレーム」が入っています。

露光ヘッド：

(1) 露出原理：

UV-LED紫外線ランプは大量の紫外線を放射し、特殊な光学系により均一な照明を形成します。

(2) 照明均一性の測定と計算:

均一性はUV検出器（UV-A UV照射計）で測定

 

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